绘制ROI区域

编辑方案时,大部分模块的基本参数和模板配置中需要绘制ROI区域进行视觉检测。本章节主要介绍如何绘制ROI区域。

编辑方案时,以下三个地方需绘制ROI区域:

模块检测的ROI区域

模块的ROI创建选择绘制时,需在图像预览窗口自行绘制ROI区域。支持绘制的ROI形状以及相关操作参见下表。

表 1 模块检测的ROI区域介绍

ROI形状

图标

操作方法

全屏

单击后,该模块的检测区域调整为输入源处订阅的整副图像。

说明:

各模块的ROI区域默认为全屏。

矩形

单击后,在预览窗口的图像上选中某一点,按住鼠标左键并拖动,即可完成绘制。

选中矩形区域,可调整位置、角度和大小,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改中心点X/Y宽/高角度参数进行调整。

多边形

单击后,在预览窗口的图像上选中某一点作为多边形的起点,并依次在多边形的其他点处单击,最后一个点双击即可。

选中多边形区域,可调整位置;选中多边形的交点可调整多边形的形状,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改点*(x,y)参数进行调整。

单击后,在预览窗口的图像上,选中某一点作为圆心,再选一点作为圆周上的点,即可完成绘制。

选中圆区域,可调整位置、大小、内径、外径等,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改圆心点X/Y内径外径参数进行调整。

扇形

单击后,在预览窗口的图像上,选中某一点作为圆心,再选一点作为圆周上的点,即可完成绘制。

选中扇形区域,可调整位置、大小、内径、外径、起始角度和角度范围等,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改圆心点X/Y内径外径起始角度角度范围参数进行调整。

阵列圆

单击后,在预览窗口的图像上选中某一点,按住鼠标左键并拖动,即可完成绘制,选中的点为四边形左上角的点。

选中阵列圆区域,可调整位置、矩形大小和角度、圆的大小和形状等,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改横向圆个数M(只能通过此处调整)、纵向圆个数N(只能通过此处调整)、中心点X/Y宽/高角度外径参数进行调整。

直线卡尺

预览窗口的图像默认已完成直线卡尺的绘制。

其中各个矩形框为单个卡尺的输入区域。

选中直线卡尺区域,可调整位置,还可调整直线的位置及长度、以及卡尺的大小,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改起点X/Y终点X/Y卡尺数量(只能通过此处调整)、卡尺宽/高参数进行调整。

圆卡尺

单击后,在预览窗口的图像上,选中某一点作为圆卡尺的圆心,再选一点作为圆卡尺的圆周上的点,即可完成绘制。

其中各个矩形框为单个卡尺的输入区域。

选中圆卡尺区域,可调整位置,还可调整圆以及卡尺的大小,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改圆心点X/Y半径卡尺数量(只能通过此处调整)、卡尺宽/高参数进行调整。

圆弧卡尺

单击后,在预览窗口的图像上,分别依次选择两个点作为圆弧的起点和终点,即可完成绘制。

其中各个矩形框为单个卡尺的输入区域。

选中圆弧卡尺区域,可调整位置,还可调整圆弧的半径、起点、终点、方向以及卡尺的大小,具体参见如下视频。也可通过单击ROI参数,修改起点X/Y终点X/Y半径卡尺数量(只能通过此处调整)、卡尺宽/高方向圆弧大小参数进行调整。

双矩形

单击后,在预览窗口的图像上自动完成绘制。

选中四矩形中的每个矩形区域,可分别调整位置,还可调整宽、高以及角度。

四矩形

预览窗口的图像默认已完成直线卡尺的绘制。

选中四矩形中的每个矩形区域,可分别调整位置,还可调整宽、高以及角度。也可通过单击ROI参数,修改中心点X/Y宽/高角度参数进行调整。

单击后,在预览窗口的图像上选中某个点即可完成绘制。

选中绘制的点,可调整位置。也可通过单击ROI参数,修改点X/Y坐标参数进行调整。

线

单击后,在预览窗口依次选择两个点作为线的起点和终点,即可完成绘制。

选中绘制的点,可调整线及起点/终点的位置。也可通过单击ROI参数,修改起点X/Y坐标终点X/Y坐标参数进行调整。

在预览窗口选中绘制的ROI区域,右键单击可进行删除复制操作。其中复制仅在模块支持绘制多个ROI区域时,可进行使用,否则不支持。

其次,部分ROI区域的线条上带箭头,该箭头用于表示ROI区域的方向。一般卡尺类模块使用时会根据选中区域的方向做检测。

模块检测的ROI屏蔽区域

模块的ROI区域类型选择图形类型时,可绘制ROI区域的屏蔽区域,使检测时屏蔽该区域。

单击后,在图像预览窗口进行绘制即可。使用方法与多边形ROI区域基本一致,此处不再赘述。具体操作参见如下视频。

模块中模板配置的掩膜区域

模块的模板配置选择图像后,需创建掩膜区域。单击模板配置窗口左上角各类创建掩膜的图标后,需在图像预览窗口自行绘制掩膜区域。

掩膜形状包括扇形、扇圆形、矩形、多边形和轨迹。除轨迹外,其余掩膜形状绘制方法与模块检测的ROI区域一致,此处不再赘述。掩膜形状使用轨迹时,需依次单击选择轨迹线上的每个点,双击选择的终点即可。选中轨迹区域,可移动位置并调整每个点的位置,操作方式和线大同小异。